NanoGram Corporation y Tokyo Electron, Ltd. suscriben un JDA para fotovoltaicos de película delgada.
NanoGram Corporation, compañía programadora y fabricante líder de productos y soluciones avanzadas para aplicaciones energéticas, electrónicas y ópticas, anunció que ha ampliado su relación con Tokyo Electron, Ltd. de inversor estratégico a socio de desarrollo de mercado y tecnología firmando un acuerdo de desarrollo conjunto (Joint Development Agreement, JDA).
El JDA se centrará en el desarrollo de las herramientas de deposición de película delgada avanzada basado en el proceso de deposición reactiva láser (laser reactive deposition, LRD™) para silicio de NanoGram. La plataforma ha sido identificada para un mercado fotovoltaico de película delgada de rápido crecimiento, que se espera crezca hasta en un 40 por ciento del mercado total de fotovoltaicos (photovoltaics, PV) para el año 2012 de acuerdo con el Instituto Prometheus.
El proceso de LRD de NanoGram tiene una ventaja de velocidad distintiva con capacidad para depositar el silicio amorfo y microcristalino significativamente más rápido que los procesos CVD tradicionales. Se espera que el trabajo de desarrollo sea complementario con el negocio de módulos de PV SilFoil™ multicristalino de bajo costo de NanoGram.
“Esta relación ampliada con TEL es muy importante y emocionante para nosotros porque valida la inversión inicial de TEL en NanoGram y el potencial de nuestra tecnología,” dijo el Dr. Kieran Drain, Presidente y Director Ejecutivo de NanoGram. “Esta relación extendida ayudará a NanoGram a acelerar el desarrollo de esta tecnología para capturar la demanda de herramientas de deposición de silicio de mayor velocidad.”
“Estamos muy contentos con nuestra inversión en NanoGram y hoy día este desarrollo de tecnología conjunto además establece nuestra relación y crea nuevas oportunidades en mercados claves y objetivos," dijo Mike Yamaguchi, Presidente de TEL Venture Capital.
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